Международный коллектив исследователей с
участием сибирских специалистов использовал новый подход к обработке тонких
полупроводниковых слоев при помощи лазерных импульсов. Подобная технология
может существенно повысить эффективность солнечных элементов и успешно
применяться в области гибкой электроники.
С системой кремний — германий в Институте физики
полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН работают с начала 1990-х. Для
выращивания структур на их основе ученые используют разные методы. В этой
работе они задействовали технологию плазмохимического осаждения с последующим
импульсным лазерным воздействием, при котором кристаллизации подвергались
только слои германия, а слои кремния оставались аморфными (некристаллическими).
Благодаря такой селективности можно значительно поднять надежность и качество
тонкопленочных модулей, предназначенных для солнечных элементов и электронных
устройств с гибкими дисплеями.
«Мы начинали эту работу совместно с группой ученых
из Ярославского филиала Физико-технологического института им. К. А. Валиева РАН
и Института физики АН Чешской Республики. Затем нам помог
продвинуться крупный проект-стомиллионник “Квантовые структуры для посткремниевой
электроники” во главе с нашим институтом», — комментирует ведущий научный
сотрудник лаборатории неравновесных полупроводниковых систем ИФП СО РАН и
лаборатории функциональной диагностики низкоразмерных структур для
наноэлектроники Новосибирского государственного университета доктор физико-математических
наук Владимир Алексеевич Володин.
В. А. Володин готовит образец
полупроводниковой пленки для анализа на электронном микроскопе.
Похожий эксперимент исследователи проводили
несколько лет назад с использованием лазерной установки с наносекундной
(10−9 секунд) длительностью импульса, однако нужный результат получить не
смогли: в процессе кристаллизации слои начали перемешиваться друг с другом. По
словам В. А. Володина, проблема возникла из-за слишком высокой температуры и
большого временного интервала импульсов. «Если долго воздействовать на
германий, тепло успеет распространиться на кремний, он нагреется, и слои,
соответственно, смешаются. Это одна из причин, почему мы выбрали импульсный
режим, а не непрерывное лазерное воздействие», — объясняет физик. Ученые пришли
к выводу, что большей продуктивности можно достичь, используя низкотемпературный
отжиг (ниже 120 °С) с применением лазеров с пико- (10−12 секунд) и
фемтосекундной (10−15 секунд) длительностью импульсов. В работе также
использовались установки из Центра коллективного пользования научным
оборудованием «Высокие технологии и аналитика наносистем» НГУ.
Кремниевые и германиевые аморфные слои получили
в ЯФ ФТИАН им. К. А. Валиева РАН по технологии плазменно-химического осаждения
из газовой фазы. Этот метод используют для разложения прекурсоров — газов, из
которых в ходе обработки образуются полупроводниковые пленки, — на активные
радикалы. «Для кремния прекурсором является моносилан, — поясняет Владимир
Володин, — летучее соединение SiH4. Для германия, соответственно, моногерман
(GeH4). В нашем институте мы в основном работали с моносиланом, а с
моногерманом — наши коллеги из Ярославля. Превращение вещества из газового
состояния в твердое осуществляется в несколько этапов. В камеру из одного
источника выпускается моносилан, разбавленный аргоном. Далее в молекулах газа
нужно разорвать химические связи, то есть удалить из них водород. Сделать это
можно двумя способами с использованием либо высоких температур, либо плазменных
разрядов. В первом случае невозможно использовать недорогие нетугоплавкие (плавящиеся
при относительно низких температурах) подложки, поэтому выбор был сделан в
пользу второго варианта. Под воздействием разрядов плазмы ионы и электроны в
электрическом поле ускоряются, набирают нужные энергии, сталкиваются между
собой и ионизируют другие молекулы. В итоге из большей части прекурсора
улетучивается водород, и радикалы кремния (либо германия) постепенно оседают на
поверхности подложки. Происходит это неспешно — один ангстрем (0,1 нанометра) в
секунду». В работе были использованы подложки двух типов: из
монокристаллического кремния, на которых удобно исследовать образцы для
электронной микроскопии, и нетугоплавкие подложки из стекла.
Полученные слои модифицировались лазерными импульсами
на фемто- и пикосекундной лазерных установках с длиной волн 1 500 и 1 030 нм
соответственно. Суть процедуры заключалась в том, что маленькое пятно лазера
быстро проводило сканирующую обработку по площади подложки с находящейся на ней
аморфной полупроводниковой пленкой. За время ультракороткого действия импульсов
облучаемая лазером область плавилась и охлаждалась, и в процессе остывания
происходил ее переход в кристаллическое состояние. «Для этой работы мы не стали
применять другие типы отжигов, в том числе печной. Во-первых, для выращивания
структур большой площади печь должна быть соответствующего им размера. А
во-вторых, не любая подложка способна выдержать высокие температуры: обычное
стекло, к примеру, начинает размягчаться уже при 300—350 °C. Поэтому мы
остановились на лазерном отжиге. Его основное преимущество заключается в том,
что из-за большой теплоемкости подложка за время импульса не успевает сильно
нагреться, тогда как пленка за этот же промежуток достигает температуры
плавления», — отмечает В. А. Володин.
Для изучения состава кристаллических пленок
использовалось несколько методик. «Чтобы оценить прозрачность слоев, мы
применяли спектроскопию отражения и прохождения видимого света. Конечно,
увидеть ее прозрачность можно и невооруженным глазом, посмотрев сквозь структуру
на источник света, но определить пропускание в процентах в зависимости от длины
волны — это уже количественные измерения, требующие применения
спектрофотометров. Метод спектроскопии комбинационного рассеяния света (или как
ее называют в англоязычной литературе, рамановской спектроскопии) позволил нам
быстро и бесконтактно узнать структуру вещества. Спектры, как и отпечатки
пальцев человека, носят уникальный характер, и если внимательно на них посмотреть,
то можно не только определить, какой это материал, но и даже то, в каком состоянии,
аморфном или кристаллическом, он находится. Мы также использовали электронную
микроскопию для уточнения толщины пленок и спектроскопию инфракрасного поглощения
для оценки наличия водорода в них», — комментирует ученый.
Исследователи будут продолжать работу, несмотря
на непростую геополитическую обстановку, в частности они планируют освоить
технологию выращивания тонкопленочных структур из германа в ИФП СО РАН. В. А.
Володин также отметил, что хорошие результаты были достигнуты благодаря
международному сотрудничеству со специалистами из Чехии, Германии и при участии
китайских магистрантов, обучающихся в НГУ.